簡介

A&D公司推出的EB/FIB產品系列，專為電子束微影（EBL）和聚焦離子束（FIB）應用設計，提供高精度的電子束控制解決方案。
該系列核心產品包括50kV和100kV電子束柱，搭配高壓電源和控制單元，適用於高解析度圖案製作。50kV電子束柱採用三透鏡光學系統和ZrO/W（肖特基）電子槍，實現小於20nm的電子束直徑，適合光罩和掩模製作。100kV版本進一步提升解析度，電子束直徑小於5nm，適用於高精度圖案需求。
此外，A&D提供數位類比轉換器（DAC）和偏轉放大器，如AD-199-3副偏轉放大器，具備±37.5V輸出、12位元解析度和50奈秒穩定時間，確保電子束的精確控制。鏡頭和對準器模組提供±2A輸出電流，穩定性達到±1ppm，進一步提升系統性能。
A&D的EB/FIB產品廣泛應用於半導體製程、奈米結構製作和材料分析等領域，為高解析度電子束應用提供可靠的解決方案。