簡介

A&D 持續以衡器與量測儀器製造商的身分穩健成長，並運用近三十年來累積的獨特技術，積極挑戰嶄新的事業領域，邁向更高的發展。近年來，A&D 尤其專注於支援半導體開發的 A/D（類比轉數位）與 D/A（數位轉類比）轉換裝置，以及電子束相關事業。

用於半導體製程與控制的微型化技術

像是微處理器與電腦記憶體等半導體積體電路，不斷被要求具備更高的容量並實現更進一步的微型化。為此，微影製程中所使用的光源正逐漸轉向波長比一般雷射光更短的電子束，該電子束是由電子槍所發射而成。A&D 早期即投入電子槍的開發，並成功研製出具備業界頂尖高電壓輸出與優異穩定操作性的電子槍。此外，此項技術亦具備應用於 DVD 母片製作的潛力，並已與離子槍結合使用於表面分析領域。

此外，A&D 在控制電子束所需的周邊電路開發上亦具備優勢。A&D 引以為傲的 A/D（類比轉數位）與 D/A（數位轉類比）轉換技術，目前已應用於電子束偏轉電路所需的超高速高精度 D/A 轉換器（DAC），用以控制電子束的照射方向。A&D 所開發的遮斷電路（blanking circuits），可控制電子束的照射間隔，另有鏡頭調整器（lens aligner），可控制電子束的直徑等產品，也廣受業界專業人士的高度推薦。

DAC（數位轉類比轉換器）市場需求

由於半導體持續微型化的競爭日益激烈，對 DAC（數位轉類比轉換器）的要求也越來越嚴苛。舉例而言，A&D 所開發的 DAC 就達成了 ±320V 輸出、20 位元精度，以及 10 微秒穩定時間的高標準。

然而，「高精度」與「高速反應」這兩項需求本身是矛盾的，這也是目前面臨的主要課題。因為電子束的定位誤差會直接影響圖案的書寫精度，但若要提升製程的產能，又必須具備高速的反應性能。

A) 主偏轉放大器規格

B) 副偏轉放大器規格

C) 透鏡與對準器規格